Formation of metallic film and formation of pole for thin-film magnetic head

金属膜形成方法及び薄膜磁気ヘッドのポール形成方法

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To set the width of metallic film patterns at a very small value of high accuracy which exceeds the threshold of an exposure device. SOLUTION: A first resist frame is formed in the patterns corresponding to the patterns of the metallic films on a base 110. Next, the metallic plating film 510 is adhered to the circumference of the first resist frame. The first resist frame is then removed by allowing the metallic plating film 510 to be left. Metallic films 220 are formed in the patterns obtd. by removing the first resist frame.
(57)【要約】 【課題】 金属膜パターンの幅を、露光装置の限界を越 えた高精度の微小値に設定する。 【解決手段】 支持体110の上に、金属膜のパターン に対応したパターンで、第1のレジストフレーム410 を形成する。次に、第1のレジストフレーム410の周 囲に、金属メッキ膜510を付着させる。次に、金属メ ッキ膜510を残して、第1のレジストフレーム410 を除去する。次に、第1のレジストフレーム410を除 去することによって得られたパターン内に、金属膜22 0を形成する。

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    US-6666981-B2December 23, 2003Tdk CorporationMethod of forming patterned thin film and method of forming magnetic pole of thin-film magnetic head