Aligner

露光装置

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光露光単体ではなしえない高解像度を実現で き、かつ高スループットをねらうことのできる露光装置 を提供する。 【解決手段】 本発明の露光装置1は、荷電粒子ビーム 及び光の両方に感度を有するレジストを塗布したウエハ 31を載置するステージ35と、同ウエハ上にパターン を形成するための荷電粒子ビーム光学系3及び光光学系 5を具備する。そして、荷電粒子ビーム露光と光露光を 同時並行的に行える。
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an aligner with a high throughput and high resolution hardly realized by an optical aligner single body. SOLUTION: An aligner 1 includes a stage for mounting a wafer 31, coated with a resist sensitive for a charged particle beam and a light beam, and a charged particle beam optical system 3 and a light beam optical system 5 for forming a pattern on the wafer 31. Then, charged particle beam exposure and light exposure can be carried out in parallel concurrently.

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